产品应用
公司主要生产超高纯铝及其高纯铝基合金,根据形状可分为长靶、方靶、圆靶、异形靶材、键合线材,蒸发镀膜颗粒等。根据成分可分为高纯铝靶材、高纯铝合金靶材等。
溅射靶材主要应用与电子及信息产业,如集成电路、信息储备、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用与耐磨材料、高温耐蚀、高端装饰用品等行业。
溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如:尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高的要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。
公司最初联合高校十几名博士经过近十年的时间掌握从提纯、铸造、挤压、机加工、热处理一套完整的流程。在此基础上开发了新型高纯铝偏析法,公司拥有自主知识产权的新型自动化超高纯铝提纯设备,获得多项国家专利。
质量保证,服务至上。公司为国内外的多家客户稳定提供各种规格靶材、键封装合线材、蒸发镀膜颗粒、屏蔽型材等。
液晶显示屏
半导体靶材
国产芯片
玻璃镀膜
激光存储器
军工远红外雷达
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