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● 超高纯度● 杂质和微量元素极低● 采用自主研发的晶析法提纯技术
1、产品包括:Al、Al0.5Si、Al1Si、Al0.5Cu、AlSiCu等;2、纯度为4N~5N5;3、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求;4、G4.5、G5、G5.5、G6、G8.5、G10.5代超高纯铝靶材
· 4~8寸半导体行业用蒸发材料:高纯铝及其合金颗粒,圆片,箔材· 4~8寸半导体行业用蒸发材料全球市场占有率领先,半导体行业用蒸发材料均可提供
电子级超高纯铝源(纯度6.5N以上)是分子束外延(MBE)和金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术制备锑化物器件过程中必不可少的支撑性材料之一。
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