超高纯铝需要知道的事项

发布时间：

2021/09/15 00:00

公司主要生产4N6高纯铝，产品用于制造电子产品、电子元器件、高低压电解电容器、高性能导线、蓝宝石原料、集成电路等。在生产工艺方面，公司引进国际的高纯铝偏析法生产技术，生产耗电量在600-700度左右每吨，较传统法降低了能耗量95%以上，成本相当于下降元/吨。在高纯铝技术的基础上，公司积极扩张产能，计划加大生产规模至年产能10万吨。未来公司新增产能将在国内主要高纯铝企业中占据地位，进一步扩大市场份额。

高纯金属靶材主要有高纯铝靶、高纯钽靶、高纯钨钛靶等，其产业链上游是金属提纯厂商，中游是靶材制造厂商、溅射镀膜厂商，下游主要是半导体、平板显示、信息存储、电子器件、光伏电池、光学应用等终端应用领域。高纯金属靶材行业是在半导体产业需求的拉动下产生的，随着科技不断进步，信息存储、平板显示、光伏等产业逐步发展壮大，使得高纯金属靶材应用领域不断拓宽。

值得一提的是，前三季度，继续加大研发投入，三季报显示，今年前三季度公司研发费用增长40%。依托重点项目，实现我国首台新一代直接出线式1000kV交流特高压变压器通过全部试验，实现了靠背大容量单相三绕组换流变、干式铝绕组多晶硅还原炉变压器、35kV六氟化硫充气柜、500kV同相并联电缆线路设计及应用技术、综合能源规划仿真系统、储能系统解决方案研究及核心产品、6N超高纯铝工艺技术及产品等一系列重大新产品及新技术方案研发并推向市场。

超高纯铝及其合金是目前使用最为广泛的半导体芯片配线薄膜材料之一。在其应用领域中，超大规模集成电路芯片的制造对溅射靶材金属纯度的要求，通常要求达到（5N5）以上，平板显示器、太阳能电池用铝靶的金属纯度略低，分别要求达到（5N）、（4N5）以上。目前，公司生产的铝靶已经广泛应用于超大规模集成电路芯片、平板显示器、太阳能电池等领域。

查看更多...

免责声明：内容转发自互联网，本网站不拥有所有权，也不承担相关法律责任。如果您发现本网站有涉嫌抄袭的内容，请转至联系我们进行举报，并提供相关证据，一经查实，本站将立刻删除涉嫌侵权内容。

上一篇：

无

下一篇：

无